VirtualLab™ 5.0新版發布
版本5.0.0
概述：
發布時(shí)間(jiān)：2011年6月
升級服務：要求升級服務至少(shǎo)到2011年第二季度
安裝：VirtualLab™ 5.0是完全安裝模式，不需要卸載4.0的版本。
VirtualLab™ 5.0提供以下新的特性和(hé)增強功能。新的更新指南以及應用案例列在最後一部分。
照明(míng)工具箱：LED光整形和(hé)均勻化
-照明(míng)工具箱使用場(chǎng)追迹分析和(hé)設計(jì)照明(míng)系統，場(chǎng)追迹這個(gè)新概念用來(lái)應用和(hé)強調微結構和(hé)衍射光學的集成，使得(de)設計(jì)LED光整形和(hé)均勻化的緊湊型照明(míng)系統更加靈活，以及使其他高(gāo)度輻射變化的光源照明(míng)系統更加方便。
-光斑整形概念是在光栅陣列單元的基礎上(shàng)提出來(lái)的。這種陣列通(tōng)過大(dà)量的運算(suàn)符來(lái)定義。陣列的每個(gè)單元使得(de)光線朝預定的方向傳播，并在目标平面上(shàng)成像為(wèi)一個(gè)光斑，所有(yǒu)陣列單元的光斑在一起形成了理(lǐ)想光模式。
-設計(jì)算(suàn)法是用來(lái)設計(jì)光栅單元陣列的。所有(yǒu)光栅單元的周期和(hé)轉動角度是一定的，這樣一階光栅單元分散入射光線到不同的出射方向，一個(gè)理(lǐ)想的光模式就産生(shēng)了。
-光栅單元陣列的數(shù)據用CSV格式和(hé)GDSII格式來(lái)描述，來(lái)避免出現離散程度過大(dà)的現象。
-局部線性光栅近似分析器(qì)可(kě)以提取目前照明(míng)工具箱中光路圖的光栅單元陣列的所有(yǒu)光栅參數(shù)，并将它們規範化，用作(zuò)LLGA結果産生(shēng)器(qì)的輸入部分。（見下部分）
-光線追迹模拟用來(lái)分析設計(jì)照明(míng)工具箱的光路圖。
-在照明(míng)工具箱中，相機探測器(qì)使場(chǎng)強度可(kě)視(shì)化，并用作(zuò)色彩場(chǎng)設置。
光源
-遠場(chǎng)光源被視(shì)作(zuò)一種新的光源，它允許使用包括局部偏振的方法來(lái)定義一個(gè)空(kōng)間(jiān)部分相幹光源。
-部分相幹光源模型是由Mode-Based模式定義的。現在，這種光源模式中大(dà)多(duō)數(shù)模型的位置以及權重的定義是基于數(shù)據（輸入數(shù)據）或者可(kě)編程的。
光束成形器(qì)設計(jì)
-現在可(kě)以使用一個(gè)簡單的對話(huà)框來(lái)實現基于幾何光學的方法将光傳輸由高(gāo)斯
型轉換為(wèi)高(gāo)帽型。
-新加入了一款折射光束整形編輯器(qì)。一些(xiē)安裝組件的功能可(kě)以使用了，包括使高(gāo)斯光束整形為(wèi)圓形、矩高(gāo)帽形或線形。
光栅的模拟與優化
-LLGA（Local Linear Grating Approximation）結果産生(shēng)器(qì)可(kě)以精确地計(jì)算(suàn)結果（對于Ex-和(hé)Ey-方向偏振的各階瑞利參數(shù)）。它是由傅裏葉模拟方法（FMM）通(tōng)過計(jì)算(suàn)一組簡單光栅得(de)到的。這種光栅由一個(gè)包含周期，旋轉角度，以及入射光線的入射角在內(nèi)的數(shù)據系列定義的。這種數(shù)據系列可(kě)以由xml匹配文件輸入，或者通(tōng)過局部線性光栅分析器(qì)得(de)到。
-新添加了用來(lái)分析光栅的偏振分析器(qì)。對于給定的波長範圍，這種偏振分析器(qì)可(kě)以完成與偏振相關的最小(xiǎo)或最大(dà)值的計(jì)算(suàn)。也可(kě)以計(jì)算(suàn)得(de)到Ex-和(hé)Ey-方向偏振的全反射或透射的最小(xiǎo)或最大(dà)值，還(hái)能運行(xíng)類似偏振對比度的這種更高(gāo)級的評價函數(shù)。
-效率分析器(qì)和(hé)偏振分析器(qì)的結果在參數(shù)優化中可(kě)得(de)到。因此，參數(shù)優化可(kě)應用于子波光栅的設計(jì)，這種光栅可(kě)以作(zuò)為(wèi)抗反射結構光栅，或依次修改入射光線偏振。
參數(shù)優化
-參數(shù)優化由模拟退火(huǒ)法——一個(gè)全局優化算(suàn)法擴展而來(lái)。這種新的算(suàn)法可(kě)以全局搜索出目标函數(shù)的最小(xiǎo)值。
參數(shù)分析
-參數(shù)運行(xíng)分析功能控制(zhì)上(shàng)添加了一些(xiē)新的模式，這種掃描模式允許等步進的全局掃描參數(shù)空(kōng)間(jiān)。随機模式中可(kě)以應用均勻分布的随機組合參數(shù)，尤其是在Monte Carlo模拟和(hé)公差分析中這種分析非常有(yǒu)用。
光學表面
-所有(yǒu)的光學表面都允許導入菲涅爾區(qū)域。
-對于采樣界面，VirtulLabTM允許用一個(gè)多(duō)邊形表面拟合采樣高(gāo)度值文件，不論是圓柱表面，非球面，還(hái)是多(duō)邊形面。
數(shù)組
-數(shù)組的概念已經引入。數(shù)組用來(lái)存放任何代表圖像的數(shù)據，從N維實空(kōng)間(jiān)到M維複空(kōng)間(jiān)都可(kě)以設計(jì)，并可(kě)得(de)到一個(gè)有(yǒu)多(duō)樣視(shì)角的合适的視(shì)圖。
-VirtualLab™允許把一個(gè)或多(duō)個(gè)位圖、文本文件輸入到一個(gè)有(yǒu)輸入向導支持的數(shù)組。不僅包括含有(yǒu)一維或二維實數(shù)數(shù)組的.txt和(hé).csv類輸入文件，也支持包含如下格式的文件：.bmp, .jpeg, .png, .pcx, .gif.
删除項目
Spread Sheets（System -> New Spread Sheet）不再支持了，它的菜單欄已被删除。目前，數(shù)據表文件可(kě)以被打開(kāi)，在下一個(gè)版本中，這些(xiē)Spread Sheets将自動轉換成一個(gè)Light Path Diagram。
更新指南及應用案例
-指南96.01：照明(míng)工具箱（新）。這本指南介紹了照明(míng)工具箱的概念以及使用方法，并演示了光栅單元陣列的分析和(hé)設計(jì)過程。
-指南101.01：介紹參數(shù)優化（更新版）。這本指南介紹了VirtualLab™參數(shù)優化的使用方法。例如，當我們考慮尋找一個(gè)球面鏡的焦點時(shí)。
-案例246.01：鍍膜正弦光栅（更新）上(shàng)的衍射光精确模拟。這個(gè)例子演示了鍍膜正弦上(shàng)的模拟，并說明(míng)了鍍膜上(shàng)所有(yǒu)反射規則下的總效率。
-案例315.01：一個(gè)光栅偏振的參數(shù)優化（新）。這個(gè)應用案例展示了用于VIS入射光偏振的矩形栅格參數(shù)優化過程。為(wèi)此，調制(zhì)深度和(hé)光栅縫寬需要調整，以在波長為(wèi)450nm~800nm的光線傳播中得(de)到最大(dà)的TE偏振值和(hé)最高(gāo)偏振對比度（大(dà)于50）的最佳參數(shù)組合。
-案例307.01：整形為(wèi)圓形高(gāo)帽狀的折射光源的參數(shù)優化（新）。這個(gè)例子論證了折射光束成形編輯中光束成形系統的建立。結果産生(shēng)系統中的光學性能可(kě)以通(tōng)過VirtualLab™的參數(shù)優化功能來(lái)改善。
-案例317.01：将LED光整形為(wèi)交叉模式過程中的光栅設計(jì)和(hé)分析（新）。這種應用案例論證了照明(míng)系統中LED光整形為(wèi)交叉光模式的分析和(hé)設計(jì)，這種整形是通(tōng)過一個(gè)光栅單元陣列來(lái)實現。
-技(jì)術(shù)要點 010：編程參考（更新）。這個(gè)技(jì)術(shù)要點描述了VirtualLab™如何由模式和(hé)代碼來(lái)定制(zhì)，同時(shí)也描述了語法。它包括VirtualLab™的編程參考。
-技(jì)術(shù)要點 021：VirtualLab™中的參數(shù)優化（更新）。這個(gè)技(jì)術(shù)要點介紹了VirtualLab™中參數(shù)優化的使用方法，它描述了算(suàn)法背景，尤其是目标函數(shù)如何定義以及限定條件如何處理(lǐ)。
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