VirtualLab 5.4
更新時(shí)間(jiān)：2012.9
更新服務：2012年第三季度的需要
安裝：在5.0或5.x.x的版本上(shàng)安裝更新
光栅模拟
光栅分析方面有(yǒu)幾個(gè)性能的改進。這包括并行(xíng)生(shēng)成的過渡點和(hé)其他的傳輸點。因此，可(kě)以大(dà)幅度減少(shǎo)90%的計(jì)算(suàn)時(shí)間(jiān)或更多(duō)（具體(tǐ)數(shù)值依據具體(tǐ)應用）。
在光栅效率分析器(qì)中，衍射效率低(dī)于用戶自定義阈值的級次可(kě)以設置為(wèi)0了。這會(huì)影(yǐng)響衍射效率和(hé)瑞利系數(shù)。
增加了一個(gè)選項來(lái)控制(zhì)在零級産生(shēng)的線性相位是否在光栅場(chǎng)內(nèi)部分析器(qì)的結果中顯示。
光栅場(chǎng)內(nèi)部分析器(qì)允許調整顯示區(qū)域，并允許對多(duō)個(gè)周期進行(xíng)探測分析。
光栅場(chǎng)內(nèi)部分析器(qì)的算(suàn)法進行(xíng)了修訂。它現在的速度更快，同時(shí)允許對光栅內(nèi)部的磁場(chǎng)進行(xíng)計(jì)算(suàn)。
分解預覽按鈕允許調整在X方向上(shàng)的取樣信息。
對非垂直的入射波，由FMM計(jì)算(suàn)出的衍射級次的數(shù)目已經被優化了。
視(shì)圖和(hé)數(shù)據數(shù)組
在光學系統和(hé)元件的3-D視(shì)圖中增加了一個(gè)長度比例。
現在更多(duō)的插值法可(kě)以應用到數(shù)據數(shù)組中。一個(gè)位圖序列（可(kě)以輸出為(wèi)AVI格式視(shì)頻）可(kě)以從由幾個(gè)子集組成的數(shù)據數(shù)組生(shēng)成。
增加了把數(shù)據數(shù)組轉換成諧波場(chǎng)的功能。
一些(xiē)操作(zuò)的啓用使得(de)數(shù)據陣列包括重新采樣和(hé)子集訪問的功能。同時(shí)，提供了一些(xiē)新的探測器(qì)（最大(dà)值、最小(xiǎo)值）。
光學表面
引入定義光學表面離散的高(gāo)度水(shuǐ)平（量化）的幾個(gè)模式。這樣，定義好的高(gāo)度輪廓可(kě)以适用于不同的生(shēng)産流程。
照明(míng)工具箱
局部線性光栅分析器(qì)現在可(kě)以處理(lǐ)不同波長和(hé)橫向模式的遠場(chǎng)光源。而且，它将記錄仿真的時(shí)間(jiān)。
改進了具有(yǒu)光栅陣列的光學系統的性能和(hé)模拟精度。
現在的光栅單元格陣列制(zhì)造輸出允許為(wèi)csv格式的十進制(zhì)數(shù)和(hé)列分隔符。
參數(shù)運行(xíng)
顯示物理(lǐ)單位的屬性現在被放到參數(shù)運行(xíng)、優化和(hé)叠代文檔中去了。
現在，合成輸出如諧波場(chǎng)設置一樣把諧波場(chǎng)設置結果結合在一起了。
參數(shù)運行(xíng)允許改變由當前光路元件定位類型指定的角度。
對于激光諧振腔的分析，現在可(kě)以改變入射波長了。
處理(lǐ)
現在可(kě)以通(tōng)過檢查更新菜單項檢查VirtualLabTM是否有(yǒu)更新。
在界面編輯對話(huà)框中顯示錯誤消息的方式得(de)到改進。
現在可(kě)以直接對鍍膜層和(hé)材料進行(xíng)編輯了。
現在允許通(tōng)過源代碼的快捷菜單來(lái)打印編程的模塊和(hé)片段了。
在主菜單中的一些(xiē)項目和(hé)在光路樹(shù)性菜單都采取按字母順序排列。
光源
組合光源允許從多(duō)個(gè)光源類型中選擇光源，包括了可(kě)編程和(hé)存儲場(chǎng)光源。
Zemax文件的輸入
從Zemax中輸入的波長現在被認為(wèi)是定義在空(kōng)氣中的波長。為(wèi)此，存儲在Zeamx文件中環境參數(shù)（溫度和(hé)壓強）會(huì)被考慮進去。
新增加并且更新了教程和(hé)應用案例
案例500：設計(jì)反射性的擴散器(qì)（新增）。這個(gè)應用案例演示的是設計(jì)和(hé)分析一個(gè)微結構化的鏡面來(lái)産生(shēng)一個(gè)擴散角分布。
案例 385.01：高(gāo)數(shù)值孔徑的位圖擴散器(qì)的優化（新增）。這個(gè)應用案例演示了設計(jì)和(hé)分析一個(gè)高(gāo)數(shù)值孔徑的衍射光學元件創建一個(gè)不畸變的網格位圖。
其他的幾個(gè)應用案例也已經更新了。
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