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VirtualLab 5.5更新說明(míng)
時(shí)間(jiān):2013-01-27 18:33來(lái)源:訊技(jì)光電(diàn)作(zuò)者: 營銷部點擊:打印
VirtualLabTM新版本5.5使用場(chǎng)追迹在光學建模方面提供了前所未有(yǒu)的便利性。新版本允許添加自定義的建模技(jì)術(shù),這提供了最靈活和(hé)最有(yǒu)效的場(chǎng)追迹體(tǐ)驗,用戶定義的解是基于編程光源,元件和(hé)探測器(qì),這些(xiē)能夠在一起使用的建模解已經在VirtualLabTM中發布。
 
同時(shí)編程光源,元件和(hé)探測器(qì)也打開(kāi)了一扇令人(rén)興奮的商業概念的大(dà)門(mén):LightTrans鼓勵工作(zuò)在R&D光學建模領域的專家(jiā)和(hé)同事,将他們感興趣的并且能夠完成場(chǎng)追迹的物理(lǐ)光學技(jì)術(shù)作(zuò)為(wèi)VirtualLab編程元件補充進來(lái)。LightTrans将提供和(hé)販售這些(xiē)場(chǎng)追迹的解,作(zuò)為(wèi)VirtualLab的拓展技(jì)術(shù),所得(de)利潤将大(dà)部分給這些(xiē)解的開(kāi)發者。
 
除了新的特性以外,版本5.5允許将用戶使用C#和(hé)MATLAB編程技(jì)術(shù)定義模型整合起來(lái)。這最終使得(de)任何VirtualLab的用戶都能從場(chǎng)追迹技(jì)術(shù)中受益。
 
發布日期:2012年12月20日
更新服務:2012年第四季度要求
安裝:Virtuallab5.0或5.0.x,5.1.x,5.2.x,5.3.x,5.4.x版本上(shàng)安裝即可(kě)
 
通(tōng)過編程自定義建模
 
可(kě)編程元件:場(chǎng)追迹理(lǐ)論允許在仿真時(shí)實現不同建模技(jì)術(shù)的結合。使用編程元件,可(kě)以把用戶通(tōng)過MATLAB®或C#自定義的建模技(jì)術(shù)和(hé)VirtualLab提供的解決方案結合在一起。在編程元件裏,用戶可(kě)以直接訪問輸入場(chǎng)和(hé)要計(jì)算(suàn)的輸出場(chǎng)。相關的幾個(gè)例子已經添加到元件庫裏。
 
可(kě)編程探測器(qì):VirtualLab提供了在任意探測面的全場(chǎng)量信息。可(kě)編程探測器(qì)允許對用戶任何自定義的方程進行(xíng)評估。
MATLAB®的集成:LightTrans了解到VirtualLab的許多(duō)用戶都在開(kāi)發自己的建模技(jì)術(shù),而這些(xiē)技(jì)術(shù)大(dà)部分都是用MATLAB®編寫的。現在可(kě)以通(tōng)過MATLAB R途徑直接來(lái)訪問可(kě)編程對象的程序。
現在可(kě)以在MODULE VIEW中直接編輯引用的DLL了。
 
激光諧振腔
 
VirtualLab5.5現在可(kě)以仿真非穩腔了。
 
光源和(hé)探測器(qì)
 
具有(yǒu)太陽光譜的光源已經添加到光源庫。
把其他元件(Other Components)從探測器(qì)選單裏給删除了。它已經過時(shí)了,因為(wèi)我們得(de)到了新的、單獨的探測器(qì)來(lái)對坡印廷矢量、電(diàn)場(chǎng)和(hé)磁場(chǎng)進行(xíng)評估。
 
視(shì)圖和(hé)數(shù)據數(shù)組
 
數(shù)據數(shù)組增加了新的操作(zuò),包括給定複制(zhì)次數(shù)來(lái)進行(xíng)周期性的複制(zhì),不基于取樣和(hé)坐(zuò)标軸範圍的數(shù)據合并。
所有(yǒu)的2D數(shù)據數(shù)組都可(kě)以進行(xíng)3D顯示了。
時(shí)域轉換:帶一個(gè)子集的數(shù)據數(shù)組能夠進行(xíng)時(shí)間(jiān)取樣了。
數(shù)值型數(shù)組可(kě)以複制(zhì)到寫字闆了。
隻有(yǒu)一個(gè)子集的2D數(shù)值型數(shù)組可(kě)以分解成一維數(shù)值型數(shù)組。
數(shù)據數(shù)組的輸入向導現在允許用戶自定義數(shù)組的規格或在零點附近的中心坐(zuò)标範圍。
數(shù)字數(shù)據數(shù)組提供了一個(gè)新的标簽頁,可(kě)以通(tōng)過插值方法顯示任意坐(zuò)标處的數(shù)值。
在數(shù)據數(shù)組表格的單元表格中可(kě)以定義最大(dà)數(shù)的上(shàng)限了。
現在在預覽堆棧(Stacks)和(hé)光學序列界面(OIS)時(shí),可(kě)以對Z-X面(默認)和(hé)Z-Y面進行(xíng)切換了。
 
參數(shù)運行(xíng)
 
參數(shù)運行(xíng)現在有(yǒu)新的、特殊的對數(shù)據數(shù)組的組合輸出,且産生(shēng)的組合輸出也得(de)到了改進。
現在可(kě)以對參數(shù)運行(xíng)裏的參數(shù)選擇的項進行(xíng)分組了。
 
輸入
 
現在沒有(yǒu)指定庫文件的Zemax文件可(kě)以正确的導入到VirtualLab裏去了。
 
設計(jì)和(hé)優化
 
多(duō)模光源現在可(kě)以應用到參數(shù)優化裏去了。例如,這就使得(de)VirtualLab可(kě)以解決多(duō)色設計(jì)的問題了。
 
材料和(hé)介質
 
在材料庫裏添加了X射線材料。
現在在編輯材料時(shí),可(kě)通(tōng)過編程輸入材料的色散公式和(hé)吸收系數(shù)。
可(kě)編程的介質允許使用一系列的介質,這些(xiē)都可(kě)以再編輯對話(huà)框中設定。
材料庫中新增加兩個(gè)模闆:一個(gè)是通(tōng)過阿貝常數(shù)Vd來(lái)定義材料,另一個(gè)通(tōng)過取樣n-k-數(shù)據來(lái)定義材料。
 
雙端面型元件和(hé)結構設計(jì)
 
結構設計(jì)後的取樣表面的取樣距離用來(lái)設定通(tōng)過衍射光學表面傳輸的取樣參數(shù)。
雙端面型元件的傳輸參數(shù)在參數(shù)運行(xíng)裏的一緻性使用:增加了對于界面傳播的取樣距離和(hé)取樣點的其他參數(shù)的設置。
 
試用版
 
基于支持的目的,試用版現在可(kě)以保存設計(jì)好的光學路徑圖了。存儲好的文件不能再次在試用版中打開(kāi)。試用的客戶必須把文件發到support@infotek.com.cn。 我們能從系統中提取信息确保對試用客戶的一個(gè)合格和(hé)有(yǒu)效的技(jì)術(shù)支持。
 
操作(zuò)處理(lǐ)
 
理(lǐ)想材料:理(lǐ)想的高(gāo)吸收的材料被存儲到材料庫裏,并命名為(wèi)Ideal High Reflectance Material,讓用戶更快找到。
現在物理(lǐ)傅裏葉變化時(shí)可(kě)以應用的(除了數(shù)值傅裏葉變換)。它使用的是物理(lǐ)縮放來(lái)保持場(chǎng)的功率。
取樣表面現在可(kě)以通(tōng)過數(shù)據數(shù)組而不是圖表來(lái)定義了。
現在可(kě)以通(tōng)過光學序列表面工具(OIS Tools)來(lái)同步光學序列表面的所有(yǒu)光學鍍膜。
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