LightTrans VirtualLabTM的持續完善——LightTrans VirtualLabTM 提供更多(duō)擴展功能，更易上(shàng)手，性能更加卓越
VirtualLabTM正在持續擴展并完善。每年數(shù)次的新版本發布保證了VirtualLabTM的用戶能立刻從這個(gè)平台的發展中受益。對于提升用戶的便捷性和(hé)舒适度，改善數(shù)值性能，解決光學建模中的問題以及在适應現代計(jì)算(suàn)機體(tǐ)系結構方面，使用LightTrans在VIrtualLabTM工具箱提供的更新服務都是非常有(yǒu)用的。
5.10版本的更新功能
參數(shù)運行(xíng)模拟系列實驗
改進的參數(shù)運行(xíng)定義了針對公差和(hé)優化的實驗系列，這對于用戶來(lái)說會(huì)更加舒适方便，對結果緩存方式的改進使得(de)運算(suàn)速度大(dà)大(dà)提升。
部分相幹光模拟
VirtualLab提供了基于模式模型的合理(lǐ)方法進行(xíng)時(shí)域和(hé)空(kōng)域的部分相幹光建模，通(tōng)過高(gāo)效方法以及并行(xíng)處理(lǐ)急劇(jù)加速了模式的處理(lǐ)過程。
元件定位更加靈活
光學元件的位置和(hé)方向定義更加自由，包括傾斜、偏離，以及公差分析和(hé)優化中的使用。
高(gāo)效地追迹引擎
包括場(chǎng)追迹和(hé)光線追迹的追迹引擎又有(yǒu)了進一步的擴展。作(zuò)為(wèi)系統一部分的光栅的嚴格模拟是其中一個(gè)例子
光束整形以及圖形生(shēng)成
添加了單色光以及白光LED整形的新設計(jì)方法。添加了新的輸出格式.STL和(hé).TIFF。
數(shù)據查看更方便
VirtualLab對于數(shù)據和(hé)數(shù)據矩陣的顯示、操作(zuò)以及定值提供了新的選項，包括動畫(huà)中的數(shù)據。
用戶自定義建模
VirtualLab.Programming用戶可(kě)在可(kě)編程界面上(shàng)添加自己的建模技(jì)術(shù)，這使得(de)場(chǎng)追迹更加靈活。
飛秒(miǎo)和(hé)阿秒(miǎo)的時(shí)域空(kōng)域建模
飛秒(miǎo)阿秒(miǎo)的展寬壓縮、聚焦整形的建模已經添加到5.8-5.10版本中。阿秒(miǎo)脈沖建模中會(huì)使用X光的色散關系。
黑(hēi)匣子元件保護知識産權
新添加的黑(hēi)匣子元件可(kě)以使光學供應商提供給客戶一個(gè)VirtualLab建模的加密元件
建模情況易跟蹤
場(chǎng)追迹對交叉學科的建模任務提供了高(gāo)度靈活性，對于每一步的計(jì)算(suàn)情況VirtualLab都有(yǒu)詳細的日志(zhì)記錄。
關于光學建模設計(jì)中的需求和(hé)技(jì)術(shù)問題，我們誠邀您的探討(tǎo)。
VirtualLabTM5．10把主要精力投入在了照明(míng)工具箱，改善了光束整形理(lǐ)念，使照明(míng)工具箱功能更強大(dà)。反射和(hé)折射整形元件可(kě)以在照明(míng)工具箱中使用，并且在設計(jì)分析複雜的光學系統過程中允許添加其他光學元件。
另外使用場(chǎng)追迹的概念進行(xíng)光學建模性能得(de)到了改善，包括坐(zuò)标系的巧妙處理(lǐ)以及傳播過程中分析參數(shù)的使用更加統一。
數(shù)據矩陣以及面對對象的數(shù)據矩陣的可(kě)視(shì)化有(yǒu)了極大(dà)改善，并開(kāi)發了一維和(hé)二維數(shù)據的內(nèi)容選擇工具。
詳情如下：
1、 照明(míng)工具箱
支持使用反射和(hé)折射整形元件，通(tōng)過陣列反射鏡及陣列棱鏡實現。
對于反射和(hé)折射整形元件可(kě)以将其結構輸出為(wèi)txt文件及CAD格式，輸出至CAD中由STL實現，包含結構規劃及邊界擠壓。
可(kě)以建立複雜光學系統，輸出結果由camera detector觀察。
基于照明(míng)工具箱設計(jì)算(suàn)法的元胞陣列可(kě)以使用随機生(shēng)成來(lái)複現結果。
基于光束整形元件的元胞陣列的設計(jì)過程中，需要考慮到生(shēng)産加工約束條件。
LLGA結果發生(shēng)器(qì)可(kě)以自動計(jì)算(suàn)一階平均效率。
2、 參數(shù)運行(xíng)
參數(shù)運行(xíng)停止後再繼續運行(xíng)新的循環計(jì)算(suàn)時(shí)，中間(jiān)結果不會(huì)丢失，就是說參數(shù)運行(xíng)可(kě)停止可(kě)繼續，不用重頭再來(lái)。
參數(shù)運行(xíng)處理(lǐ)計(jì)算(suàn)過的結果會(huì)更高(gāo)效，定義沒有(yǒu)合适結果的循環也會(huì)運行(xíng)。
所有(yǒu)循環完成後可(kě)以自動保存結果，并且能強制(zhì)關閉會(huì)話(huà)窗口。
參數(shù)運行(xíng)的參數(shù)可(kě)視(shì)圖表可(kě)以選擇是否顯示物理(lǐ)單位。
添加了所有(yǒu)光源的更多(duō)參數(shù)。
3、 位置/公差
公差改名為(wèi)孤立地位（isolated positioning），會(huì)話(huà)框中的位置也做(zuò)了調整。
恒等算(suàn)子和(hé)坐(zuò)标中斷面可(kě)在4π空(kōng)間(jiān)中自由定義。
4、 光路流程圖
連接兩個(gè)元件的标準流程圖允許選擇瑞利-索末菲卷積和(hé)瑞利-索末菲求和(hé)算(suàn)子。
擴展的日志(zhì)會(huì)記錄下光路流程圖的內(nèi)在傳播邏輯，包括傳播算(suàn)子的完成步驟的擴展記錄。
新日志(zhì)标準加入到光路日志(zhì)當中，因此可(kě)以查看并選擇雙界面元件（DIC）內(nèi)的自動傳播算(suàn)子的選項。
新的光路流程圖工具可(kě)以将一個(gè)元件加入到已經創建的光學界面序列（OIS）。
5、 傳播
在之前的VirtualLabTM版本中，諧波場(chǎng)集的所有(yǒu)子場(chǎng)都必須在一個(gè)坐(zuò)标系中定義，在5.10版中這個(gè)限制(zhì)已經去除。這使得(de)光路流程圖性能更優，模拟也能更一緻。
傳播算(suàn)子做(zuò)了調整，使得(de)到下一個(gè)傳輸面上(shàng)的場(chǎng)計(jì)算(suàn)更加優化，這保證了諧波場(chǎng)集的每個(gè)子場(chǎng)都會(huì)被單獨計(jì)算(suàn)。
大(dà)多(duō)數(shù)理(lǐ)想元件可(kě)通(tōng)過解析地定義入射光坐(zuò)标系來(lái)處理(lǐ)橫向偏移。線性相位算(suàn)子也能解析地處理(lǐ)場(chǎng)的方向。
真實元件可(kě)以解析地處理(lǐ)橫向平移，傳播技(jì)術(shù)的選擇明(míng)确了是否能解析地解決平移。
采用光線追迹時(shí)，光線數(shù)量可(kě)以自由定義。
對一些(xiē)理(lǐ)想元件可(kě)以進行(xíng)光線追迹，會(huì)将理(lǐ)想化效果應用于入射光束上(shàng)，例如線性相位、球面相位、分束器(qì)等等。
用戶可(kě)以在光線束追迹模拟時(shí)選擇探測器(qì)。
光路長度由光線束追迹決定，在脈沖評估探測器(qì)和(hé)光路長度分析儀中會(huì)使用光路長度信息。
6、 光源
所有(yǒu)光源在優化坐(zuò)标系下産生(shēng)輸出信号，包括橫向平移值及部分相幹光源的平移模位置。對于平面波光源的方向也會(huì)做(zuò)解析處理(lǐ)。
引入了對産生(shēng)非單一諧波場(chǎng)的光源新的處理(lǐ)選擇項，用戶可(kě)以明(míng)确隻選擇用光源的其中一個(gè)模式，用戶還(hái)可(kě)以通(tōng)過選擇橫移序号及光譜序号來(lái)指定産生(shēng)哪個(gè)模式。
7、 元件
新的黑(hēi)匣子元件可(kě)以讓用戶對指定的子系統進行(xíng)加密。黑(hēi)匣子元件可(kě)以用于在不洩露安全IP的情況下發送用戶的光學系統。
子系統元件可(kě)以用于打包一套定義好的LPD相對應的光路編輯界面（LPE），這個(gè)技(jì)術(shù)對于VL5.10解決棱鏡問題來(lái)說非常有(yǒu)必要。
一個(gè)新的理(lǐ)想元件可(kě)通(tōng)過用一個(gè)子系統的ABCD矩陣來(lái)定義該子系統。
用戶可(kě)以定義一個(gè)固定到場(chǎng)尺寸和(hé)采樣（field size and sampling）這樣一個(gè)光路元件的輸入傳輸面。
OIS預覽會(huì)顯示指定介質的折射率。
在OIS/Stack的标注行(xíng)界面會(huì)在圖示中呈紅色。
可(kě)定義随機元胞/散斑型擴散器(qì)的種子。 |
