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光學幹涉測量系統的物理(lǐ)光學仿真
時(shí)間(jiān):2019-01-17 22:19來(lái)源:訊技(jì)光電(diàn)作(zuò)者: 技(jì)術(shù)部點擊:打印
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光學幹涉測量系統的物理(lǐ)光學仿真
 
SPIE OPTO – 第一場(chǎng): 光子儀器(qì)的設計(jì)、改進及制(zhì)造
 
時(shí)間(jiān):2019年2月5日│ 14:20 ─ 14:40
 
Site Zhang, Rui Shi, Christian Hellmann, and Frank Wyrowski
 
基于幹涉儀的現代光學測量技(jì)術(shù)在諸多(duō)領域發揮着重要的作(zuò)用,并往往包含多(duō)種類型元件。而改善系統性能或豐富系統功能的新方法,通(tōng)常會(huì)産生(shēng)系統分析和(hé)組裝的問題。為(wèi)解決這一問題,我們提出一種基于物理(lǐ)光學的仿真途徑。該方法從光源的電(diàn)磁表征出發,可(kě)以進行(xíng)相幹和(hé)偏振的模拟。我們演示了如何在選定的經典幹涉測量裝置中集成新組件(從顯微鏡物鏡到衍射、微納米結構),并測量所得(de)系統是否滿足功能需求。
 
了解更多(duō)信息,請(qǐng)發送郵件至:support@infotek.com.cn / support@infocrops.com
網址:http://www.infotek.com.cn / http://www.honglun-seminary.com
 
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