1. 介紹軟件
1.1 運行(xíng)程序
1.2 創建一個(gè)簡單的設計(jì)
1.3 繪圖和(hé)制(zhì)表來(lái)表示性能
1.4 3D繪圖-用兩個(gè)變量繪圖表示性能
1.5 創建一個(gè)默認設計(jì)
1.6 文件位置
2. 通(tōng)過剪貼闆和(hé)文件導入導出數(shù)據
3. 約定-程序中使用的各種術(shù)語的定義
3.1 厚度(物理(lǐ)厚度,光學厚度[FWOT,QWOT],幾何厚度)
3.2 單位定義
3.3 軟件如何進行(xíng)數(shù)據插值
3.4 可(kě)用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann)
4. 特定設計(jì)的公式技(jì)術(shù)
5. 交互式繪圖
6. 薄膜設計(jì)技(jì)術(shù):設計(jì)不同類型薄膜
6.1 抗反射膜
6.2 短(duǎn)波通(tōng)/長波通(tōng)濾波片
6.3 帶通(tōng)濾波片
6.4 斜入射薄膜
6.5 優化
6.5.1 目标
6.5.2 方法(Simplex, Optimac, Simulated Annealing, Conjugate Gradient, Quasi-Newton, Needle, Differential Evolution, Non-Local)
6.5.3 鎖定和(hé)關聯膜層
6.6 包含基底影(yǐng)響
6.7 錐角和(hé)帶寬計(jì)算(suàn)
6.8 簡單的公差
6.9 顔色模型(tristimulus, chromaticity, CIE L*A*B*, CIE L*U*V*, dominant wavelength)
7. 光學常數(shù)推導
7.1 測量vs模型拟合
7.2 用包絡法推導介質膜的光學常數(shù)
7.3 利用光譜儀的測量值計(jì)算(suàn)基底的光學常數(shù)
7.4 推導金屬薄膜和(hé)其它吸收膜的光學常數(shù)
8. 反演工程
8.1 鍍膜過程中兩種主要的誤差(系統誤差和(hé)随機誤差)
8.2 使用反演工程來(lái)控制(zhì)對設計(jì)的搜索,該設計(jì)代表實際生(shēng)産的産品。
8.3 多(duō)個(gè)解問題的探索
9. Runsheet:使用光學監控計(jì)算(suàn)沉積過程中的預期信号
9.1 簡單光控的描述
9.2 Tooling Factors
9.3 Machine Configuration-指定鍍膜設備的功能
9.4 Runsheet-顯示鍍膜過程中預期的監測信号
9.5 案例-截至濾光片
10. Report Generator
10.1 定制(zhì)打印輸出
10.2 可(kě)用于控制(zhì)打印輸出的指令包括:
10.2.1 頁面
10.2.2 表格
10.2.3 繪圖
10.2.4 其它文件和(hé)數(shù)據源的信息
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