在許多(duō)的光學系統中主軸的方向被一平面所限制(zhì)住。VStack是對這一類光學系統特性的計(jì)算(suàn)工具。在vStack中光源是由一條條是光線所組成并透過系統進行(xíng)進迹的工作(zuò)，所以可(kě)以同時(shí)對任何傾斜角度的表面計(jì)算(suàn)反射及穿透。

因為(wèi)針對多(duō)重表面在方向上(shàng)變化進行(xíng)針算(suàn)，所以在vStack中是使用生(shēng)産率(throughput)的方式取代平常使用的反射及穿透系數(shù)。生(shēng)産率(throughput)是來(lái)自光束透過系統所得(de)到。使用者隻需要簡單的定義表面的順序，表面的角度及反射與穿透等參數(shù)。VStack将會(huì)針對此系統所有(yǒu)的入射角度進行(xíng)計(jì)算(suàn)。vStack裏面也提供了可(kě)調整的入射光束角度，而不需要改變vStack。光學系統大(dà)部份都會(huì)包含一些(xiē)傾斜的表面，所以就會(huì)顯現出極化的特性。因此橢圓儀(ellipsometeric)的項 及 将會(huì)被計(jì)算(suàn)。使用 及 是因為(wèi)它們是獨立于表面間(jiān)距的絕對值。

此類幾何結構将會(huì)造成在儀器(qì)表面上(shàng)同時(shí)發生(shēng)的p及s極化光。當光束方向為(wèi)與平面有(yǒu)一傾斜角，透過skew angle，這個(gè)問題就不會(huì)再發生(shēng)。一些(xiē)光線，原本為(wèi)s極化光從系統射出時(shí)将會(huì)成為(wèi)p極化光，而一些(xiē)p極化光将會(huì)成為(wèi)p極化光。我們稱此一效應為(wèi)極化洩漏(polarization leakage)，其第一階正比于 skew angle。因此我們可(kě)以得(de)到一新的效能參數(shù)極化洩漏參數(shù)(polarization leakage coeffiecinet)，來(lái)描述此一效應。鍍膜設計(jì)将會(huì)影(yǐng)向極化洩漏參數(shù)，同時(shí)也有(yǒu)可(kě)能影(yǐng)向反射及穿透系數(shù)，而且此類參數(shù)為(wèi)再定義(refinable)之參數(shù)在vStack的計(jì)算(suàn)是非常簡易的，所需要設定的部份隻有(yǒu)一道(dào)光束。在許多(duō)系統中，包含角度，多(duō)層膜，分光器(qì)。為(wèi)了讓此類系統的參數(shù)能夠最佳化，必須進行(xíng)corefinement這項功能。在vStack可(kě)利用許多(duō)的merit函數(shù)來(lái)進行(xíng)自動化再調整的工作(zuò)。

想象我們再設定一個(gè)複雜的vStack，其表面為(wèi)不同的傾斜表，且其光線為(wèi)部份反射部份穿透，也許将會(huì)是一項吃(chī)力的工作(zuò)。這種設計(jì)很(hěn)容易的各項表面很(hěn)容易的被錯誤的安排，使得(de)光束無法打到正确的位置，或就此消失。為(wèi)了确定vStack的特色，使其更容易，所以其中提供了一個(gè)圖形工具。這個(gè)自動描繪vStack的配置工具，顯示出光線在穿過系統，其方向及在各表面上(shàng)之效應。使用此一工具将使建構vStack更為(wèi)容易。