TRCX：摻雜過程分析 - 仙訊（上海）科技有限公司

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TRCX：摻雜過程分析

時(shí)間(jiān):2021-12-29 21:03來(lái)源:訊技(jì)光電(diàn)作(zuò)者: 技(jì)術(shù)部點擊:次打印

在 LTPS 制(zhì)造過程中，使用自對準掩模通(tōng)過離子注入來(lái)金屬化有(yǒu)源層。當通(tōng)過 TRCX 計(jì)算(suàn)電(diàn)容時(shí)，應用與實際工藝相同的原理(lǐ)。工程師(shī)可(kě)以根據真實的 3D 結構提取準确的電(diàn)容，并分析有(yǒu)源層離子注入前後的電(diàn)位分布，如下圖所示。

(a)FIB

(b) 摻雜前後對比

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