用于二維光栅的元件內(nèi)部場(chǎng)分析器(qì)

随着VirtualLab Fusion版本2023.2的最新發布，添加了許多(duō)新的有(yǒu)用工具。但(dàn)新奇之處還(hái)不止于此：我們還(hái)借此機會(huì)升級了一些(xiē)以前存在的功能。我們将焦點放在了元件內(nèi)部場(chǎng)分析儀：FMM上(shàng)，這是一種允許用戶可(kě)視(shì)化和(hé)研究微結構和(hé)納米結構內(nèi)部場(chǎng)分布的工具。分析器(qì)現在還(hái)可(kě)以分析2D周期性結構。

 

元件內(nèi)部場(chǎng)分析儀：FMM
 

 

這個(gè)例子演示了如何計(jì)算(suàn)1D或2D周期性微米或納米結構內(nèi)部的電(diàn)磁場(chǎng)分布。

 

抗反射蛾眼結構的嚴格分析與設計(jì)
 

 

利用傅立葉模态方法和(hé)VirtualLab Fusion中的參數(shù)優化，我們展示了蛾眼啓發的抗反射結構的分析和(hé)設計(jì)。