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時(shí)間(jiān):2024-03-19 22:22來(lái)源:訊技(jì)光電(diàn)作(zuò)者: 技(jì)術(shù)部點擊:打印
複雜光栅結構被廣泛應用于光譜儀、近眼顯示系統等領域。VirtualLab Fusion 軟件用傅立葉模态法(FMM,或者RCWA)一種簡易的仿真方法來(lái)嚴格分析任意的光栅結構。使用圖形用戶界面,可(kě)以設置堆棧的幾何圖形,從而生(shēng)成複雜的光栅結構。 此例程主要用于構建具有(yǒu)二維周期性特征的光栅。
• 光栅工具箱中構建二維光栅的方法 − 基于介質定義的類型 − 基于界面定義的類型
• 計(jì)算(suàn)之前修改高(gāo)級選項和(hé)檢查定義的結構的方法。
• 提示:在VirtualLab軟件中的光栅結構中,表現為(wèi)二維周期性的被稱作(zuò) 三維光栅。同樣的,層狀光栅(一維周期性)被稱作(zuò)二維光栅。

初始化光栅工具箱
初始化
開(kāi)始菜單欄 (Start)
光栅菜單欄(Grating) 
通(tōng)用光栅光路圖(三維光栅) General Grating Light Path   Diagram(3D Gratings)
提示:對于特殊類型的光栅,例如柱形光栅,
可(kě)以在光栅工具箱中直接點擊柱形光栅光路
圖(三維光栅)(Pillar Grating Light
Path Diagram(3D Gratings))

設置光栅結構
首先,需要定義基底(Base Block)的厚度和(hé)介質。
VirtualLab中光栅結構在堆棧(stack) 中定義。
可(kě)以在基底的前表面、後表面或者前後表面同時(shí)添加堆棧(stack)。
例如,圖中在前表面添加了堆棧(stack)。
基于材料定義光栅的類型(例程: 柱形光栅)
堆棧編輯器(qì)

在堆棧編輯器(qì)(Stack Editor)中,界面和(hé)材料可(kě)以從中目錄(catalog) 中添加。
• 為(wèi)了用一種特殊的介質定義光栅,需要添加兩個(gè)平面界面,作(zuò)為(wèi)介質的邊界。

兩個(gè)平面之間(jiān)的介質類型可(kě)以是均勻介質(homogenous)或者調制(zhì)介質(modulated)。
使用調制(zhì)介質,就可(kě)以非常有(yǒu)效地描述複雜光栅結構,如柱形光栅。
柱形光栅介質

在目錄類别中LightTrans預設(LightTrans Defined)下柱形介質類(pillar media)中可(kě)以添加鉻柱(Chromium Pillars)。
這種介質可(kě)以仿真柱形結構或者在基底表面打孔的結構。
此例程中,矩形排布的金屬鉻圓柱位于熔融石英基底表面。
在堆棧編輯器(qì)的視(shì)圖中,不同材料根據折射率的高(gāo)低(dī)表示為(wèi)不同深淺的顔色
(顔色越深,折射率越高(gāo))。
注意:堆棧編輯器(qì)固定顯示x-z平面的橫截面視(shì)圖。

請(qǐng)注意:界面添加的順序固定由基底表面開(kāi)始算(suàn)起。
選中的界面會(huì)以紅色突出顯示。
此外,無法在此處定義光栅前面的介質(指
最後一個(gè)界面後的介質)。它會(huì)自動從光栅部件前面的材料中提取。
可(kě)以在光學參數(shù)設置編輯器(qì)(Optical Setup Editor)中更改這處材料。

堆棧周期(Stack Period)可(kě)以控制(zhì)整個(gè)結構的周期。
對于二維周期性光栅,必須在x和(hé)y方向分别定義周期。
該周期也是FMM算(suàn)法的周期邊界條件。
對于簡單的光栅結構,建議選擇與介質周期一緻 (Dependent from the Period of Medium) 選項,并選擇合适的周期性介質的序号。

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