能夠改變光學系統的參數(shù)是任何設置分析的關鍵部分，以便更好地了解系統在從制(zhì)造錯誤到組件潛在錯位的任何情況下的行(xíng)為(wèi)。設計(jì)一個(gè)在面對這些(xiē)不可(kě)避免的偏離理(lǐ)想化預期設計(jì)時(shí)表現出魯棒性的系統，與找到一個(gè)完全滿足所有(yǒu)規範的初始設計(jì)一樣重要，如果不是更重要的話(huà)。
有(yǒu)鑒于此，快速物理(lǐ)光學建模和(hé)設計(jì)軟件VirtualLab Fusion提供了其參數(shù)運行(xíng)文檔：一個(gè)允許用戶靈活配置所有(yǒu)系統參數(shù)變化并分析相應結果的工具。在今天的通(tōng)訊中，我們将通(tōng)過兩個(gè)示例展示此工具如何改進光學工程師(shī)的工作(zuò)流程。在第一個(gè)示例中，我們檢查準直透鏡的特性，并自動将探測器(qì)結果導出到指定的文件路徑（例如，用于附加的後處理(lǐ)）。在第二個(gè)示例中，我們使用參數(shù)運行(xíng)的完全可(kě)定制(zhì)可(kě)編程模式來(lái)實現感興趣參數(shù)變化的不同随機分布，以便對鋸齒光栅進行(xíng)公差分析。
導出參數(shù)運行(xíng)的結果
在本文檔中，顯示了從參數(shù)運行(xíng)文檔導出數(shù)據的過程。C#模塊用于将能量密度分布和(hé)數(shù)值結果根據要求的文件路徑保存到硬盤上(shàng)。
利用參數(shù)運行(xíng)的可(kě)編程模式進行(xíng)随機分布公差分析
在這個(gè)用例中，我們演示了一個(gè)可(kě)編程的參數(shù)運行(xíng)，允許用戶使用不同的随機分布進行(xíng)公差分析。用戶可(kě)以在均勻分布、正态分布和(hé)截止正态分布之間(jiān)進行(xíng)選擇，甚至可(kě)以針對同一參數(shù)運行(xíng)中公差分析涉及的不同參數(shù)組合不同的分布類型。
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