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分層介質組件
時(shí)間(jiān):2022-10-10 20:03來(lái)源:訊技(jì)光電(diàn)作(zuò)者: 技(jì)術(shù)部點擊:打印
摘要                                          
 
分層介質組件旨在對一系列平面圖層進行(xíng)嚴格而快速的分析,其中每個(gè)平面圖層後面都是均質(各向同性或各向異性)介質。這種配置在例如塗層應用中特别令人(rén)感興趣。在這個(gè)用例中,我們展示了如何在VirtualLab Fusion中定義這樣的結構,并深入探討(tǎo)了它的特性。

 
在哪裏可(kě)以找到組件?
 
分層介質組件可(kě)以在Components > Single Surface & Coating下找到。

 
結構的配置


由塗層定義

                                          
 
塗層輸入 

                            
 
圖層序列的方向

                                       
 
中後圖層結構

                     
 
圖層矩陣求解器(qì)                                 
 
分層介質組件使用圖層矩陣電(diàn)磁場(chǎng)解算(suàn)器(qì)。該解算(suàn)器(qì)在空(kōng)間(jiān)頻率域(k-domain)中工作(zuò)。它包括
1. 每個(gè)均勻圖層的本征模解算(suàn)器(qì)和(hé)
2. 匹配所有(yǒu)界面邊界條件的S-矩陣。
本征模解算(suàn)器(qì)計(jì)算(suàn)各圖層中均勻介質在k域中的場(chǎng)解。S-矩陣算(suàn)法通(tōng)過遞歸方式匹配邊界條件來(lái)計(jì)算(suàn)整個(gè)圖層系統的響應。這是一種衆所周知的無條件數(shù)值穩定性方法,因為(wèi)與傳統的傳遞矩陣不同,它避免了計(jì)算(suàn)步驟中的指數(shù)增長函數(shù)。

 
文件信息                                           
 
 
進一步閱讀
- Effects of Mirror Coating on Pulse Characteristics
- Absorption in a CIGS Solar Cell
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