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JCMsuite應用:平面波入射非周期結構中的近場(chǎng)分布
時(shí)間(jiān):2022-10-24 19:26來(lái)源:訊技(jì)光電(diàn)作(zuò)者: 技(jì)術(shù)部點擊:打印
本教程示例遵循P. Lalanne等人(rén)[1]研究的基準問題設置[2]。同時(shí)演示了相同設置下的FEM性能。基準問題包括計(jì)算(suàn)由平面波入射的孤立(即非周期)模式中的近場(chǎng)。該幾何結構由基闆上(shàng)銀膜中的孤立亞波長狹縫和(hé)銀膜中相鄰的平行(xíng)凹槽組成。平面波垂直入射該裝置,并具有(yǒu)平面內(nèi)電(diàn)場(chǎng)極化(分别為(wèi)面外磁場(chǎng)極化)。通(tōng)過狹縫傳輸到位于狹縫下方特定距離的探測器(qì)區(qū)域的光的能量通(tōng)量被檢測,并歸一化為(wèi)通(tōng)過狹縫的能量通(tōng)量,在不存在凹槽的第二次模拟中計(jì)算(suàn)。由于幾何、光源和(hé)材料的特性,等離子體(tǐ)效應導緻了歸一化透射對物理(lǐ)參數(shù)的非常關鍵的依賴。這使得(de)标準化傳輸的準确計(jì)算(suàn)成為(wèi)具有(yǒu)挑戰性的基準問題。
 
狹縫槽設置(左)和(hé)用于歸一化的狹縫設置(右)的三角形網格;灰色:銀膜,藍(lán)色:基闆,紅色:檢測器(qì)區(qū)域,綠色:空(kōng)氣;請(qǐng)注意金屬角處網格的預細化。

計(jì)算(suàn)後場(chǎng)強度,有(yǒu)有(yǒu)限元網格部分(右)和(hé)沒有(yǒu)限元網格部分(左)(頂行(xíng):  圖 ,底行(xíng):   圖 ,僞色标)。
 
data_analysis文件夾還(hái)包含一個(gè)腳本,用于執行(xíng)有(yǒu)槽和(hé)沒有(yǒu)槽的模拟(根據基準問題,用于對能量流進行(xíng)規範化)。該腳本還(hái)允許更改數(shù)值和(hé)物理(lǐ)項目參數(shù),例如,檢查準确性。下面顯示了一些(xiē)示例字段分布。
 
[1]P. Lalanne, et al., Numerical analysis of a slit-groove diffraction problem, JEOS - Rapid 2, 07022 (2007).
[2]S. Burger, et al., Finite-element based electromagnetic field simulations: Benchmark results for isolated structures, Proc. SPIE 8880, 88801Z (2013), http://arxiv.org/pdf/1310.2732
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