JCMsuite應用：電(diàn)磁場(chǎng)與獨立的接觸孔的相互作(zuò)用

本案例為(wèi)獨立接觸孔的模拟，如下所示：

 

 

在布局中文件layout.jcm中定義的幾何設置，給定的平行(xíng)四邊形定義了掩模上(shàng)邊長為(wèi)280nm的孔洞大(dà)小(xiǎo)。由于這種模式建模時(shí)定義為(wèi)孤立的，它在橫向上(shàng)被吸收掩模材料包圍。在JCMsuite中，通(tōng)過定義一個(gè)圍繞幾何單元的ConvexHull，可(kě)以方便地建立這個(gè)結構。這将自動建立一個(gè)ConvexHull與封閉模式的最小(xiǎo)距離偏移。對于ConvexHull其域名、優先級和(hé)邊界條件可(kě)以像往常一樣定義。

由于掩模模式是孤立的，因此任意數(shù)量的相同頻率、不同入射方向的入射平面波都可(kě)以定義為(wèi)光源。
 

光瞳面的西格瑪坐(zuò)标用來(lái)定義不同的入射方向。在底部顯示了傳輸磁場(chǎng)的一些(xiē)圖。後處理(lǐ)傅裏葉變換的定義類似于周期設置。然而，在孤立的情況下，計(jì)算(suàn)了一個(gè)離散表示的連續傅裏葉變換的掩模遠場(chǎng)分布。連續傅裏葉變換因此在k空(kōng)間(jiān)的笛卡爾網格上(shàng)采樣。得(de)到的仿真結果如下所示：