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時(shí)間(jiān):2023-01-15 21:45來(lái)源:訊技(jì)光電(diàn)作(zuò)者: 技(jì)術(shù)部點擊:打印
摘要
 
在增強現實和(hé)混合現實應用 (AR & MR) 領域的波導光學器(qì)件設計(jì)過程中,橫向均勻性(每個(gè)視(shì)場(chǎng)模式)和(hé)整體(tǐ)效率是兩個(gè)最重要的評價函數(shù)。 為(wèi)了在光波導系統中獲得(de)适當的均勻性和(hé)效率值,有(yǒu)必要允許光栅參數(shù)的變化,特别是在光瞳擴展區(qū)域和(hé)/或耦出區(qū)域中。 為(wèi)此,VirtualLab Fusion 能夠在光栅區(qū)域中引入平滑變化的光栅參數(shù),并提供必要的工具來(lái)根據定義的評價函數(shù)運行(xíng)優化。 此用例展示了如何使用連續變化的填充因子值優化波導來(lái)獲得(de)足夠的均勻性。
 
 
任務描述
 

 
光波導組件

 
使用波導組件,可(kě)以輕松定義具有(yǒu)複雜形狀區(qū)域的波導系統。 此外,這些(xiē)區(qū)域可(kě)以配備理(lǐ)想化或真實的光栅結構,以充當耦入元件、耦出元件或出瞳擴展元件。 更多(duō)信息請(qǐng)見:
 
光栅區(qū)域

 
對于耦入元件、耦出元件和(hé)眼瞳擴展元件 (EPE),使用了真實光栅。 他們的瑞利矩陣和(hé)相應的效率是用 FMM (RCWA) 嚴格計(jì)算(suàn)的。 您可(kě)以在以下位置找到有(yǒu)關如何設置的更多(duō)信息:
 
均勻性探測器(qì)

 
均勻性探測器(qì)評估局部區(qū)域內(nèi)(稱為(wèi)光瞳)的能量強度。每個(gè)光瞳由其大(dà)小(xiǎo)定義(𝑑𝑥 × 𝑑𝑦) ,其可(kě)以設置為(wèi)橢圓形或矩形。
您可(kě)以下方鏈接找到有(yǒu)關如何設置的信息:
 
 
總結-組件
  

 
帶有(yǒu)附加指南的一般工作(zuò)流程
 
1. 基本光學波導設置的配置(不屬于此用例的一部分)
 
2. 光束步迹和(hé)光栅分析工具的應用,包括生(shēng)成滿足參數(shù)調制(zhì)所有(yǒu)要求的光學設置
 
3. 光栅參數(shù)所需調制(zhì)的定義
 
4. 選擇變量并定義評價函數(shù)以優化調制(zhì)光栅參數(shù)。
 
以一個(gè)現有(yǒu)的、可(kě)運行(xíng)的波導系統作(zuò)為(wèi)基礎,即已經包括基本幾何形狀(所需距離和(hé)定位光栅區(qū)域)和(hé)光栅規格(方向、周期、順序)。這個(gè)例子取自:
• 構建波導 [用例]
 
配置光栅區(qū)域的真實光栅結構,這是應用光栅參數(shù)連續或平滑變化之前的必要步驟:
 
光束步迹和(hé)光栅分析工具用于指定光栅參數(shù)變化的所需範圍,并針對特定條件(波長和(hé)方向)預先計(jì)算(suàn)相應的瑞利系數(shù)。下一步,生(shēng)成光學設置,其中可(kě)以定義平滑參數(shù)變化:
 
注意:光栅調制(zhì)是針對各個(gè)光栅區(qū)域定義的。
 
步迹和(hé)光栅分析

 
在步迹和(hé)光栅分析工具的幫助下,光栅特性(複值)被預先計(jì)算(suàn)并存儲在查找表中,用于選定參數(shù)的指定範圍(例如填充因子)。 根據可(kě)用的效率調制(zhì)範圍選擇填充因子的初始範圍。 更多(duō)信息可(kě)參見:

 
 
初始系統的生(shēng)成

  
 
• 具有(yǒu)所謂光栅參數(shù)調制(zhì)功能的光波導設置由步迹和(hé)光栅分析工具生(shēng)成(包括光栅特性)。
 
• Uniformity Detector 用于定義優化的評價函數(shù)。
 
定義光栅區(qū)域的調制(zhì)函數(shù)

 
• 打開(kāi)光波導組件中區(qū)域的編輯對話(huà)框; 光栅特性和(hé)查找表存儲在光栅區(qū)域中。
• 編輯光栅參數(shù)調制(zhì)功能,使其定義為(wèi)可(kě)編程功能,光栅參數(shù)的預期線性調制(zhì)由開(kāi)始和(hé)結束位置的值定義(EPE 從左到右邊界,外耦合器(qì)從上(shàng)到下)。
 
初始系統的生(shēng)成


在分别為(wèi) EPE 和(hé)耦出光栅定義調制(zhì)後,可(kě)以通(tōng)過 Optical Setup > New Parameter Optimization 啓動參數(shù)優化文檔。

 
優化設置-選擇參數(shù)


 
 • 分别為(wèi)EPE 和(hé)耦出光栅選擇調制(zhì)開(kāi)始和(hé)結束位置的填充因子值。
 
• 根據調制(zhì)功能編輯器(qì)中的設置自動填充初始值。
 
優化設置 - 指定約束

 
• 定義變量的可(kě)用範圍(此處:EPE 和(hé)外耦合器(qì)的填充系數(shù))。
 
• 為(wèi)了實現低(dī)均勻性誤差和(hé)可(kě)接受的強度分布,将均勻性誤差的目标值設置為(wèi) 0%,并指定算(suàn)術(shù)平均值的目标值。
 
• 通(tōng)過定義評價函數(shù)的權重值,可(kě)以調整優化的貢獻(相關性或優先級)。
 
優化結果

 
優化結果
 



 
優化均勻性與能量密度

通(tōng)過對初始和(hé)優化系統的眼動範圍進行(xíng)線掃描,揭示了均勻性和(hé)局部能量密度的差異。

 
VirtualLab Fusion技(jì)術(shù)

  
 
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