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時(shí)間(jiān):2023-03-07 17:41來(lái)源:訊技(jì)光電(diàn)作(zuò)者: 技(jì)術(shù)部點擊:打印
摘要 

仿真技(jì)術(shù)的主要作(zuò)用之一是提供一個(gè)平台,以便在系統制(zhì)造之前研究系統的性能,以便盡可(kě)能多(duō)地預防潛在的缺陷。雜散光是影(yǐng)響系統性能的最常見現象之一,雜散光可(kě)能有(yǒu)多(duō)個(gè)來(lái)源,其中包括系統中的內(nèi)部僞反射。在這個(gè)用例中,我們分析了高(gāo)Na激光二極管準直透鏡系統中這種反射的存在,我們模拟了産生(shēng)的鬼像對探測場(chǎng)的影(yǐng)響(由主準直光束的幹涉引起的同心環圖案和(hé)由雜散光産生(shēng)的二次發散),并确定需要在透鏡系統的關鍵表面上(shàng)塗上(shàng)抗反射塗層。
 
 
建模任務
 

 
準直系統
 

 
非序列追迹

 
總結—元件
 


 
系統光線追迹結果
 
 
完美的減反射(AR)塗層
 
 
有(yǒu)內(nèi)部反射

 
文件信息

 
進一步閱讀
• Modeling of Etalon with Planar or Curved Surfaces
• Channel Setting for Non-Sequential Tracing
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