基于橢圓偏振法的光學薄膜測量

橢圓偏振法是一種光學測量方法，它利用了光在被表面反射（或透過）時(shí)發生(shēng)的偏振變化，例如塊狀材料或薄膜。随着時(shí)間(jiān)的推移，它在半導體(tǐ)和(hé)光學塗層應用中得(de)到了普及，因為(wèi)與傳統的反射測量相比，它的靈敏度更高(gāo)。 因此，橢圓偏振法現在被用來(lái)準确地表征不同樣品的成分、粗糙度、厚度、結晶特性、導電(diàn)性和(hé)其他材料特性。

在最新發布的快速物理(lǐ)光學軟件VirtualLab Fusion 2023.1中，橢圓偏振分析器(qì)已被添加到該軟件不斷增加的功能陣列中。它提供了一個(gè)簡單明(míng)了的方法，通(tōng)過在模拟産生(shēng)的電(diàn)磁場(chǎng)結果上(shàng)應用橢圓偏振的概念來(lái)研究塗層、多(duō)層結構和(hé)光栅的特性。此外，它還(hái)提供了在分析儀內(nèi)自動掃描波長和(hé)入射角的可(kě)能性，從而方便地生(shēng)成典型的橢圓偏振曲線，這些(xiē)曲線在拟合到一個(gè)模型後，可(kě)以繼續揭示我們試圖從這些(xiē)實驗中獲得(de)的材料特性。你(nǐ)可(kě)以在下面找到解釋如何使用這個(gè)新的分析儀的文件鏈接，以及一個(gè)應用于二氧化矽塗層測量的例子。

 

橢圓偏振分析器(qì)
 

 

本用例展示了橢圓偏振法的基本原理(lǐ)，并說明(míng)了VirtualLab Fusion中內(nèi)置的橢圓儀分析器(qì)的使用。

 

SiO2塗層的可(kě)變角度光譜橢圓偏振（VASE）分析

 

 

本用例說明(míng)了在VirtualLab Fusion中實現的橢圓偏振分析器(qì)在文獻中的使用：Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999).