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基于幹涉的光學測試系統
時(shí)間(jiān):2023-04-23 14:39來(lái)源:訊技(jì)光電(diàn)作(zuò)者: 技(jì)術(shù)部點擊:打印
​為(wèi)了對結構表面進行(xíng)高(gāo)精度檢查(通(tōng)常用于半導體(tǐ)行(xíng)業),可(kě)以使用基于幹涉效應的光學測試系統。對這些(xiē)設置的完整模拟需要包括所有(yǒu)物理(lǐ)光學效應,如結構處的衍射、相幹性以及在圖像平面上(shàng)産生(shēng)的幹涉。為(wèi)了幫助光學工程師(shī)完成這項任務,快速物理(lǐ)光學軟件VirtualLab Fusion提供了一系列工具,包括系統中的衍射和(hé)非序列建模。
 
随着新版本2023.1的發布,我們還(hái)提供了一種新的探測器(qì)概念,允許用戶直接根據場(chǎng)信息計(jì)算(suàn)可(kě)能感興趣的任何物理(lǐ)量。為(wèi)了了解所有(yǒu)這些(xiē)工具的是如何工作(zuò)的,我們展示了以下兩個(gè)示例。在第一個(gè)例子中,使用高(gāo)NA物鏡檢查非對稱微結構晶片,而在第二個(gè)例子中我們使用不同形狀的測試表面顯示了來(lái)自經典斐索幹涉儀的輻照度圖案。
 
用于微結構晶片檢測的光學系統
 
 
該用例顯示了高(gāo)NA晶片檢測系統的快速物理(lǐ)光學模拟,該系統通(tōng)常用于半導體(tǐ)工業中檢測晶片上(shàng)的缺陷。
 
光學檢測用的斐索幹涉儀
 
借助非連續場(chǎng)追迹技(jì)術(shù)建立了斐索幹涉儀,并顯示了來(lái)自幾個(gè)不同測試表面的幹涉條紋。
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