元件內(nèi)部場(chǎng)分析儀:FMM

摘要

                              

 

Field Inside Component Analyzer: FMM使用戶能夠分析電(diàn)磁場(chǎng)在微納米結構內(nèi)部的分布。為(wèi)此，任意周期結構(包括透射和(hé)反射、介質或金屬光栅)內(nèi)的場(chǎng)通(tōng)過應用傅裏葉模态方法/嚴格耦合波分析法(FMM/RCWA)來(lái)計(jì)算(suàn)。還(hái)可(kě)以指定場(chǎng)的哪一部分應該可(kě)視(shì)化:前向傳播的場(chǎng)、後向傳播的場(chǎng)或兩者都要可(kě)視(shì)化。

 

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元件內(nèi)部場(chǎng)分析儀:FMM是光栅光學設置的專用功能，可(kě)提供光栅結構內(nèi)部電(diàn)磁場(chǎng)的可(kě)視(shì)化。

 

評估模式

                                                      

 

為(wèi)了更容易地區(qū)分入射場(chǎng)、反射場(chǎng)和(hé)透射場(chǎng)，可(kě)以隻計(jì)算(suàn)前向或後向傳播模式，或兩者的結合。 



          前向傳播模式                    後向傳播模式             前向和(hé)後向傳播模式

 

評估區(qū)域                                                     

 

 

光栅類型                                                                 

 

元件內(nèi)部場(chǎng)分析儀可(kě)以對任意形狀的光栅結構進行(xíng)分析。這裏有(yǒu)幾個(gè)例子。

 

光栅表面采樣

    

 

光栅表面采樣                                                                  

 

對光栅結構進行(xíng)充分的采樣意味着采樣效應不應明(míng)顯地影(yǐng)響産生(shēng)的場(chǎng)。例如，如果RCWA層分解太粗糙，則可(kě)能會(huì)由于剖面中的大(dà)采樣間(jiān)隔而産生(shēng)額外的影(yǐng)響。