JCMSuite應用—衰減相移掩模

在本示例中，模拟了衰減相移掩模。 該掩模将線/空(kōng)間(jiān)圖案成像到光刻膠中。 掩模的單元格如下圖所示：

 

掩模的基闆被具有(yǒu)兩個(gè)開(kāi)口的吸收材料所覆蓋。在其中一個(gè)開(kāi)口的下方，位于相移區(qū)域。
 

由于這個(gè)例子是所謂的一維掩模(線/空(kōng)間(jiān)模式)，在xy平面中有(yǒu)一個(gè)2D仿真域。在源文件中設置3DTo2D = yes标簽，以執行(xíng)用戶自定義傳入方向的自動轉換。啓用此标記後，就可(kě)以描述傳入區(qū)域，就好像光軸與Z軸重合一樣。這允許統一設置2D和(hé)3D的掩模模拟項目。由于光線從基闆下方進入，光線的傳輸方向為(wèi)+Z方向。
 

相位分布如下圖所示：

 

相移區(qū)域的影(yǐng)響清晰可(kě)見，導緻開(kāi)口上(shàng)方光束的180度相位差。同時(shí)光場(chǎng)的S和(hé)P分量也顯示出相位差：